Nachdem der Foto-Resist entwickelt, der Kupferaufbau und die Durchkontaktierung galvanisch erfolgte und abschließend der Zinn-Ätzresist galvanisch aufgebracht wurde, muss der polymerisierte Foto-Galvano-Resist wieder gestrippt und entfernt werden.

Unsere Foto-Resist-Stripper sind speziell für die Leiterplattentechnik entwickelt worden und dienen zum strippen von wässrig alkalischen Foto-Resisten die als Galvanoätzresist aufgebracht wurden.

Durch den Foto-Resist-Stripper wird der Resist nahezu komplett als winzig kleine Partikel, die sich sehr leicht filtrieren lassen, gelöst. Das Produkt enthält keine Kalilauge, dadurch wird Kupfer und Zinn nicht angegriffen. Ein hochwirksamer Anlaufschutz, verhindert gleichzeitig die Oxidation der Kupferoberfläche.

Eine hohe Stripp- und Produktionsgeschwindigkeit sowie eine einfache Badführung, zeichnen dieses Produkt aus.

Das anschließende ätzen des Kupfers erfolgt mit unserem ammoniakalischen Ätzmedium.